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≥150 kcps
最小分析直径
15 μm
成像分辨率
≤1 μm
刻蚀能量范围
500 eV ~ 5 keV（单Ar模式）；5 keV ~ 20 keV（团簇模式）
ISS能量分辨率
＞12 eV（Au）
≥1.2*104 kcps/nA
应用领域：
主要用于表面化学组成及化学态、表面化学图像、微区定性、半定量分析、样品深度剖析、表面理论等研究，可进行XPS常规谱图、XPS成像、样品表面清洁、样品深度刻蚀、角分辨测试（ARXPS）、离子散射谱（ISS）、紫外光电子能谱（UPS）等测试。
